• Диэлектрики: SiO2, SiNx, SiOxNy.
• Полупроводниковые материалы: SiC, a-Si.

Ключевые преимущества установки Vision 310 PECVD:

• Большая область загрузки — круглый стол диаметром 305 мм, который позволяет обрабатывать подложки разных форм и размеров.
• Изменяемое расстояние между газовым душем и электродом.
• Равномерность осаждения по толщине и воспроизводимость результатов от пластины к пластине — лучше ±2%.
• В комплекте с установкой поставляется библиотека стандартных технологических процессов, которые гарантируются производителем.
• Простой, интуитивно понятный интерфейс.
• История аварийный сообщений, контроль рецептов в процессе работы — вывод данных о процессе на дисплей в режиме реального времени.
• Программное обеспечение позволяет записывать параметры процессов для дальнейшего анализа.
• Возможность удаленного управления и контроля состояния системы.
• Многоуровневый доступ пользователей.
• Наличие различных вариантов системы отслеживания окончания процесса (OES, OEI, LEPD).
• Современная архитектура на основе ПЛК и DeviceNet: безопасная работа, легкая диагностика и минимальное количество проводов.
• Простота использования и обслуживания.
• Малая занимаемая площадь <0,7 м2.
• Возможность установки через стену чистого производственного помещения.
• Опциональное оснащение боксом для работы с токсичными и коррозионными газами.
• Возможность изготовления опций и оснастки «под заказ».

Основные опции

• Система отслеживания окончания процесса:
  • Оптическая эмиссионная спектроскопия (OES)
  • Оптическая эмиссионная интерферометрия (OEI)
  • Лазерная интерферометрия (LEPD)
• Сухой форвакуумный насос
• Дополнительные газовые линии (до 10 в сумме)
• Расширение температурного интервала электрода (например, –25…+60 С, либо диапазон на заказ)
• Перчаточный бокс
• Специальные держатели образцов
• Нагреватели вакуумной камеры и вакуумного тракта
• Удаленный мониторинг состояния системы SECS/GEM
• Пакет для установки через стенку ЧПП
• Размещение газового шкафа отдельно от каркаса установки
• Расширенная гарантия производителя
• Специальные опции под заказ

Основные технические характеристики установки Vision 310 PECVD

Сообщение Установка Vision 310 PECVD появились сначала на DSystem.by.

• вакуумная камера, выполненная из боросиликатного стекла или кварца;
• ВЧ-генератор 40 кГц или 13,56 МГц;
• газовая арматура и контроллеры.

Вакуумная камера закрывается быстросъемной крышкой. Управление осуществляется аналоговыми переключателями или при помощи сенсорного дисплея. Также возможен вариант управления посредством внешнего компьютера. Основными преимуществами установок серии Zepto являются низкая стоимость и малые сроки изготовления.

Области применения

• Керамика 60×48 мм: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
• Полупроводниковые пластины до 3″: очистка перед напылением, микросваркой; удаление остатков ФР;
• R&D и исследования.

Ссылка на видео работы установки здесь

Технические характеристики установок серии Zepto

Сообщение Установка плазменной обработки Zepto появились сначала на DSystem.by.